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  • HYHZ-60-1200回轉(zhuǎn)爐
    HYHZ-60-1200回轉(zhuǎn)爐

    更新時(shí)間:2024-10-25

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    回轉(zhuǎn)爐應(yīng)用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)等行業(yè)實(shí)驗(yàn)室高溫?zé)崽幚砉に?,適用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導(dǎo)體材料等新材料領(lǐng)域;采用310S不銹鋼金屬管,可實(shí)現(xiàn)真空氣氛下的樣品熱處理,爐底裝有電動升降裝置,爐體可傾斜15°,方便進(jìn)出物料。
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  • KHGL-60-1200回轉(zhuǎn)管式爐
    KHGL-60-1200回轉(zhuǎn)管式爐

    更新時(shí)間:2024-07-08

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    回轉(zhuǎn)管式爐應(yīng)用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)等行業(yè)實(shí)驗(yàn)室高溫?zé)崽幚砉に嚕m用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導(dǎo)體材料等新材料領(lǐng)域;采用310S不銹鋼金屬管,可實(shí)現(xiàn)真空氣氛下的樣品熱處理,爐底裝有電動升降裝置,爐體可傾斜15°,方便進(jìn)出物料。
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  • 6-1600工業(yè)實(shí)驗(yàn)儀器高溫管式爐
    6-1600工業(yè)實(shí)驗(yàn)儀器高溫管式爐

    更新時(shí)間:2024-07-06

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    工業(yè)實(shí)驗(yàn)儀器高溫管式爐由管、加熱元件、控制系統(tǒng)以及輔助設(shè)備等部分組成。通常采用耐高溫、耐腐蝕的材料制成,如石英、陶瓷或金屬等。 加熱元件負(fù)責(zé)提供熱量,物料達(dá)到所需的加熱溫度。 控制系統(tǒng)用于精確控制溫度,確保加熱過程的穩(wěn)定性和安全性。工作原理: 加熱元件通過電能或燃?xì)饽軐崮軅鲗?dǎo)。通常具有良好的導(dǎo)熱性能,將熱能傳遞給被加熱物體,使其溫度升高。 控制系統(tǒng)可以根據(jù)需要調(diào)整加熱元件的
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  • 氨分解工業(yè)管式爐
    氨分解工業(yè)管式爐

    更新時(shí)間:2024-06-18

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    氨分解工業(yè)管式爐產(chǎn)品,額定溫度為 1050℃, 使用電熱絲為加熱元件, 質(zhì)量過硬, 安全可靠, 適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié),玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、 納米材料的燒結(jié)、 金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求 的熱處理, 是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)設(shè)備。
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  • 多工位真空管式爐
    多工位真空管式爐

    更新時(shí)間:2024-06-18

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    多工位真空管式爐是一種工業(yè)級的高溫爐,專為在真空或保護(hù)氣氛下進(jìn)行材料的熱處理、燒結(jié)、熔煉等工藝過程而設(shè)計(jì)。是材料加工和制造領(lǐng)域的重要設(shè)備,它通過提供精確的溫度控制和真空環(huán)境,滿足多種高溫工藝需求
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  • HY900系列三溫區(qū)管式爐
    HY900系列三溫區(qū)管式爐

    更新時(shí)間:2021-04-17

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    900系列三溫區(qū)管式爐介紹: 采用不銹鋼方管為爐管,工作溫度區(qū)間500℃至900℃,每個溫區(qū)可以單獨(dú)控溫。該系列設(shè)備的控制系統(tǒng),具有安全可靠,操作簡單,控溫精度高,保溫好,爐膛溫度均勻性高,可通氣氛抽真空等特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于高等院校,科研院所,工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)。
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  • 3kwGLHY-3-1200多工位旋轉(zhuǎn)管式爐
    3kwGLHY-3-1200多工位旋轉(zhuǎn)管式爐

    更新時(shí)間:2020-11-19

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    GLHY-3-1200多工位旋轉(zhuǎn)管式爐用途:廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材等領(lǐng)域。 特點(diǎn):爐體可360度旋轉(zhuǎn)
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  • 1200℃開啟式立式管式爐
    1200℃開啟式立式管式爐

    更新時(shí)間:2020-11-20

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    開啟式立式管式爐1200℃ 設(shè)備簡介: 立式管式爐采用爐管垂直放置、爐膛加熱絲環(huán)形分布的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),可應(yīng)用于小型鋼件的淬火、退火、回火熱處理,以及立式CVD鍍膜等。設(shè)備可在氣氛狀態(tài)、真空狀態(tài)下運(yùn)行,也可作為普通管式爐使用,適用于高校實(shí)驗(yàn)室及科研院所等單位
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